研究报告
三类真空镀膜技术 真空磁控溅射镀膜 用高能等离子体轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜 真空离子镀膜 在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质（膜材）部分离化，在工作气体离子或被蒸发物质的离子轰击作用下，把蒸发物或其反应物沉积在被镀基片表面 真空镀膜设备工艺流程 公司产品主要是真空镀膜设备，其生产工艺流程主要包括产品设计、生产
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