研究报告

光大证券-半导体行业新周期系列报告之二-光刻机：半导体设备明珠，国产化突破在即-230511

行业研究 光刻机：半导体设备明珠，国产化突破在即——半导体行业新周期系列报告之二 要点 光刻机：半导体制造业皇冠上的明珠。光刻机是光刻工艺的核心设备，主要由光学系统、机械系统和控制系统构成。目前市场上的光刻机主要分为 g-line、i-line、KrF、ArF、EUV 五代迭代更新，其中 g-line 逐渐被市场淘汰，第五代 EUV 光刻机的最小工艺节点达到了最优。在光刻机的更新迭代中，对光源、光