研究报告

半导体材料行业研究系列一：国内加快成熟制程扩产，光刻胶国产替代加速突破-源达信息

光刻胶是光刻工艺核心材料，2024年国内市场有望复苏 光刻胶是光刻工艺中的关键材料。全球光刻胶市场空间在百亿美元级别，从光刻胶的下游行业市场分布情况看，半导体、PCB和显示是主要应用领域。在半导体行业中，目前光刻胶约占晶圆材料制造成本的13%。按照配套使用的光刻机类型，半导体光刻胶可划分为g/I线胶、KrF胶、ArF胶、ArFi胶和EUV胶，全球市场占比分别约为16%、34%、10%、38%和2%