Research report

光刻胶转债怎么看：国产替代空间大，技术突破望增长-20230322-国联证券-15页

光刻胶是半导体制造中使用的核心电子材料之一。光刻胶即光致抗蚀剂，是经紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射后溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，也是光刻工艺中需用到的最重要的材料。光刻胶可以分为面板光刻胶（也称“LCD光刻胶”）、PCB光刻胶和半导体光刻胶（也称“芯片光刻胶”）。 波长最短的EUV光刻胶技术难度最大。根据应用领域不同，光刻胶可以分为面板光刻胶（也称“LCD光刻胶”）、PCB光刻胶